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我国早期半导体硅材料奠基人梁骏吾院士逝世

来源:央视新闻 时间:2022-06-24 10:02 阅读量: 字号:

  6月24日,中科院半导体所发布讣告:中国工程院院士、中国科学院半导体研究所研究员、我国著名半导体材料学家梁骏吾先生因病医治无效,不幸于2022年6月23日17时在北京逝世,享年89岁。

  梁骏吾院士1933年9月18日生于湖北武汉,1997年当选中国工程院院士。他先后荣获国家科委科技成果二等奖和新产品二等奖各1次,国家科技进步三等奖1次、中科院重大成果和科技进步一等奖3次、二等奖4次,上海市科技进步二等奖1次等各种科技奖共20余次。

  梁骏吾院士从事半导体材料科学研究工作六十多年,是我国早期半导体硅材料的奠基人。上世纪60年代解决了高纯区熔硅的关键技术;1964年制备出室温激光器用GaAs液相外延材料;1979年研制成功为大规模集成电路用的无位错、无旋涡、低微缺陷、低碳、可控氧量的优质硅区熔单晶;80年代首创了掺氮中子嬗变硅单晶,解决了硅片的完整性和均匀性的问题;90年代初研究MOCVD生长超晶格量子阱材料,在晶体完整性、电学性能和超晶格结构控制方面,将中国超晶格量子阱材料推进到实用水平;他还在太阳电池用多晶硅的研究和产业化等方面发挥着积极作用。

编辑: 石彬



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